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化学气相沉积、CVD涂层设备系统主要技术指标

?简要说明

涂层材料种类、涂层工艺种类、沉积室有效恒温区尺寸、加热炉、沉积室反应气体压力及操作方式

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化学气相沉积、CVD涂层设备系统各部分功能及设计要求

?简要说明

原料气体配送及再净化系统、金属卤化物(TiCl4、BCl3、AlCl3等)及含C/N有机化合物蒸发、制取及输送系统、加热炉及温控系统、沉积室、底座及冷却罩系统、加热炉和沉积室升、降、移位系统、反应气体流量和沉积室压力控制系统、真空及废气处理系统、计算机自动控制系统的功能及设计要求

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化学气相沉积、典型生产用CVD涂层设备

?简要说明

我国自行研制的大型CVD涂层设备技术指标

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